Ｘ線分析の進歩 20

本書は昭和39年（1964年）に『Ｘ線工業分析』として発刊され、第5集から『Ｘ線分析の進歩』として毎年刊行されているものである。内容は、解説と報文、その年度におけるＸ線分析関係の論文・行事の紹介、機器についての資料集など。わが国における業界の年鑑といえるものである。

Ⅰ. Ｘ線回折：解説
　　1. 材料構造解析のための最近のＸ線粉末回折データ解析技術
　　　(虎谷秀穂)

　　2. セラミックス高温超伝導体のＸ線Rietveld解析とシンクロトロン放射光の粉末回折への応用
　　　(中井 泉・今井克宏・河嶌拓治・泉富士夫)

Ⅱ. Ｘ線回折：報文
　　3. 粘土鉱物の水分子の粉末Ｘ線回折法による分析
　　　(渡辺 隆)

　　4. 半導体薄膜の極点図形
　　　(刈谷哲也・高倉秀行・奥山雅則・浜川圭弘)

Ⅲ. Ｘ線スペクトルによる状態分析：報文
　　5. アルデヒドー亜硫酸塩付加化合物中の硫黄原子の化学結合状態
　　　(伊藤博人・高橋義人・福島 整・合志陽一)

　　6. Cl,K,Ca,ScおよびTiKα線プロフィルの化学結合効果
　　　(河合 潤・二瓶好正・合志陽一)

　　7. 高分解能CrKα1,2スペクトルによる定量的状態分析
　　　(鹿籠康行・寺田憤一・福島 整・古谷圭一・合志陽一)

　　8. 陽極酸化被膜中のアルミニウムの状態分析
　　　(福島 整・栗間康則・清水健一・小林賢三・合志陽一)

　　9. AlK，SiKＸ線スペクトルによるファインセラミックス，薄膜の状態分析
　　　(河合 進・元山宗之)

Ⅳ. XPS：報文
　　10. オンライン波形分離法を利用したESCAによる深さ状態分析
　　　(山内 洋・服部 健・梶川鉄夫・田辺道穂)

　　11. カウフマン型イオン銃による低エネルギーイオンビームの特性
　　　(桑原 章二・伊藤秋男・宇高 忠・新井智也)

Ⅴ. 薄膜分析：報文
　　12. 薄膜の酸素EXAFS測定
　　　(前山 智・川村朋晃・尾嶋正治)

　　13. シリコンウェハー上のレジスト薄膜の不純物分析
　　　(橋本秀樹・西大路宏・西勝英雄・飯田厚夫)

Ⅵ. EPMA,蛍光Ｘ線分析：報文
　　14. ZAF補正における諸定数
　　　(小沼弘義・丹羽瀬・)

　　15. 蛍光Ｘ線法によるホウ化物，炭化物，窒化物中の含有不純物の定量(その2)
　　　(金子啓二・熊代幸伸・平林正之・吉田貞史)

　　16. 粉末法による岩石の蛍光Ｘ線分析・
　　　(刈谷 聡・刈谷哲也・鈴木堯士)

　　17. 点滴濾紙蛍光Ｘ線分析法による粉末試料中の軽元素の分析
　　　(尾松真之・虫本修二・村田充弘)

　　18. 点滴法による窒素の蛍光Ｘ線分析
　　　(田中 武・上田義人・中西典顕・岡下英男)

　　19. Be窓形真空液体試料容器による溶液の蛍光Ｘ線分析
　　　(越智寛友・田中 武・岡下英男)

Ⅶ. 既掲載Ｘ線回折図形索引

Ⅷ. 1987年Ｘ線分析のあゆみ
　　1. Ｘ線分析関係文献集
　　2. Ｘ線分析関係国内講演会開催状況
　　3. Ｘ線分析研究懇談会講演会開催状況
　　4. Ｘ線分析研究懇談会規約
　　5. ｢Ｘ線分析の進歩｣投稿手引き
　　6. (社)日本分析化学会Ｘ線分析研究懇談会1989年度幹事名簿
　　7. ｢Ｘ線粉末回折図形集｣の収集に御協力のお願い

Ⅸ. Ｘ線分析関係機器資料